5nm光刻機的原理 光刻機工作的原理介紹

1、光刻機可以分為用於生產晶片、用於封裝和用於LED製造。按照光源和發展前後，依次可分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV），光源的波長影光刻機的工藝。光刻機可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻。

2、原理：接近或接觸式光刻通過無限靠近，複製掩模板上的圖案；直寫式光刻是將光束聚焦為一點，通過運動工件臺或鏡頭掃描實現任意圖形加工。投影式光刻光刻因其高效率、無損傷的優點，是積體電路主流光刻技術。