晶片為什麼要用光刻機 晶片生產要用到光刻機的原因是什麼

1、光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.

2、因為晶片遠比這小得多，動不動就是nm的，這些最小也就是μm級別，那麼到底是什麼刻刀能做到這麼精細。所以就想到了，用光線在晶片上刻，就是光刻機。

3、Photolithography（光刻）意思是用光來製作一個圖形（工藝）；在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“複製”到矽片上的過程。形象的來說光刻機就是個“投影儀”，把我們想要的圖案投影到晶片上。